4月11日，FinFET发明人胡正明在台湾交大所举办的智能半导体产学联盟论坛中，从学术界及实务界探讨了半导体未来。

胡正明除了中研院院士，陆续接受中外五个学术单位院士头衔，且曾在张忠谋邀请下，于2001年自美返台任台积电首任技术长，协助台积电打下包括把鳍式晶体管制程基础，突破摩尔定律极限。

胡正明回忆，在台积电担任CTO时，就从政府分配替代役方案中知道台积电很受「歧视」，认为台积电只是个代工厂；他更直言，若未来摩尔定律终止了，台积电是不是更不被支持了？

但数字会说话，全球半导体产值不断创高，2017年更首度超越4000亿美元，胡正明以世界经济成长率的线图与半导体业过去30年来的成长线图做比对，从1995年起，半导体经历过去年成长17%的美好年代，但是1995年后， 虽然没有过去成长幅度大，但速度都没有慢下来，年成长仍维持4.5%。

胡正明举出当年自己突破摩尔定律经验，1999年时摩尔定律就不被看好，业界担心把晶体管做小就没办法关闭，但隔（2010）年就做出来，也就是FinFET－鳍型晶体管。

胡正明发明了鳍型晶体管（FinFET）以及「完全空乏型晶体管」（FD-SOI），两大革命性创新为半导体带来新契机。 2011年5月英特尔宣布使用FinFET技术，包括台积电、三星、苹果也都陆续采用FinFET，胡正明等于开创了摩尔定律被唱衰后的新契机。

胡正明过去就主张，只要能创造附加价值、创造高薪工作机会，就是好的产业，他认为，在发展极致工艺过程中价格会变高，因此，半导体的成长要再持续100年「当然可能」，即使摩尔定律终止，半导体仍是好的产业。